FET（Field　Effect　Transistor）ソース・ドレイン電極蒸着用金属マスク

□#12-9999 電極蒸着用金属マスクは下記の工程に従って製造され精密なマスクが出来あがります □

製造はフォトフォーミングの方法を用い且つ磁性を持たせるため”ニッケル”を使用します。　これに使うフォトマスクは極細い線のスリットの保護膜を高精度に形成させる為、ハイリソルージョン乾板又はクロムマスクに限定されます。　工程を略記しますと、基板にレジストを塗布しフォトマスクに依って露光、現像し必要な部分の露出した基板を作成。　その基板上に”ニッケル”を電鋳形成、レジストを除いて基板から”ニッケル”を剥離し仕上げて製品となります。 価格は形状、枚数によって異なりますので、全て問い合わせ下さい。

全体図面	一部拡大写真

※上記図面は産業技術総合研究所　光技術研究部門　有機半導体デバイス研究グループ　吉田先生からのご厚意によるものです。　ここに紹介しております作製パターンをそのままご本人の許可無く作製する事はできません。　作製パターンをご参考の上図面をおこして頂き詳細に付きましては打ち合わせの上、ご了解次第作製の手順になります。　価格ともご相談下さる様お願い申し上げます。

その他の作成例：�@

※上記図面は千葉大学工学部電子機械工学科　飯塚先生によるご厚意で掲載しております。　線の太さを０．０５ｍｍ、それぞれのライン間隔０．１００ｍｍ、０．０５０ｍｍ、０．０２０ｍｍの3種類のマスクパターンを2枚づつ並べて計6枚の原版をニッケルで作製。

その他の作成例：�A

※中心部拡大図のサイズはLの個所を１５µｍ、２０µｍ。　Wの個所を５０µｍ、１００µｍ。　材質：ニッケル箔、厚さ０．０１ｍｍで３パターンを６枚の図面で作製。　上記図面は千葉大学工学部電子機械工学科　酒井先生からのご厚意によるものです。

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